半導體行業VOCs廢氣(qì)處理解決方案
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半導體行業中使用的清洗劑、顯影劑、光(guāng)刻膠、蝕刻液等溶劑(jì)中含有大量有機物成分。 在工藝過程中,這些有機溶劑大部(bù)分通過揮發(fā)成(chéng)為廢氣排放。
目前,針對這(zhè)種氣(qì)體排放,一 般采用(yòng)吸附、焚燒或兩者相結合的處理方法。 吸附(fù)是利用多孔性(xìng)固體吸附劑處理混合氣體,使其(qí)中所含的一種或多種組分吸附於固體 表麵上,達到分(fèn)離的目的。吸(xī)附劑選擇性高,能分開其他過程難以分開的混合物,有效地清 除(chú)(或回收)濃(nóng)度很低的有害(hài)物質(zhì),淨化效率(lǜ)高,設備簡單,操作(zuò)方便,且能實現自動控製。
但固體吸附劑的吸附(fù)容量小,需要大量的吸附劑,設備龐大,且吸附(fù)後吸附劑(jì)需要(yào)再生處理,是吸附處理的主要缺點。半導(dǎo)體生產場所揮發(fā)出來(lái)的有機廢氣(qì)通過局部排風罩收集,經管道送至吸附淨化係統。一般采用活性炭作為吸附劑。因為活(huó)性炭是非極性吸附劑,對廢氣中水(shuǐ)蒸氣的靈敏度不高,且價格便宜。 焚燒的(de)方法也廣泛用(yòng)於半導體行業的各種有機廢氣處理,通過熱氧化將有機物轉化為 CO2 和水。同時(shí),焚燒對(duì)處(chù)理穩定流量和濃(nóng)度的廢(fèi)氣也是一種很好的方法。在熱氧化中,有機廢氣流經過加熱,氣相中的有機物被(bèi)氧化(huà)。為節省燃(rán)料使用,通常還使用熱交換器,回收焚燒產生的熱量對進口氣(qì)體進行預熱。對於處理大流量、低(dī)濃度(dù)的氣體,通常都要采用這種方法。 由於半導體行業廢氣焚燒會產生SiO2,且SiO2會使催化劑鈍化,因此半導體行業中很少采用接觸氧化的方法。
一些(xiē)半導體生產廠也(yě)使用旋轉濃縮係統富集有機廢氣,如沸石濃(nóng)縮轉輪。因為半導體工(gōng)藝(yì)過程中有機廢(fèi)氣具有排放流量大(通常大於 11039 m3 /小時)和濃度低(通(tōng)常(cháng)小於 25ppmv) 的特點,使用其它的處理技術難以達到令人滿意的處理效率(lǜ)。沸石濃縮轉輪使用內帶吸收物質的旋轉輪,其中的吸收物質部分曝(pù)露於廢氣流中。轉輪(lún)吸收廢氣中的揮發性汙染物,並使用蒸汽或熱將其脫附。脫附的氣流中(zhōng)富集了較高濃度的揮發物,這種低流量、高濃度(dù)的氣流能(néng)很好地被氧化。旋轉濃縮係統用於半導體(tǐ)行業的一個缺點是它對甲醇親和力較差,去除率僅為(wéi) 40-60%。
總而言之,廢(fèi)氣處理方(fāng)麵,半導體行業酸、堿(jiǎn)廢氣一(yī)般采用相應(yīng)的堿液吸收和酸液吸收(shōu)進(jìn)行處理, 工藝方法已非常成熟,隻要適當優化相關工藝參數,能夠滿足本(běn)標準的要求,需要關注的有 機廢氣的處理。目前處理有機廢氣(qì)的工藝有吸附法、吸收法、直接燃燒法(fǎ)、催化燃燒法、冷凝法等,吸附法采用活性炭直接吸附,淨化效果好,但是(shì)運營成本會很高;吸收法適合於溫度低、中(zhōng)高濃度的廢(fèi)氣;直接燃燒法適合於高濃度、小風(fēng)量廢氣治理;冷凝法適用於成分相(xiàng) 對單一、濃度高、且有一定回收價值的有機廢氣。對於半導體行業低濃度(dù)、大風量、成分複(fù)雜的(de)有機廢氣,吸(xī)附法、吸收法、燃燒法、冷凝法均(jun1)不適用,比較適用的(de)是吸附——催化(huà)燃燒法。目前省內一些(xiē)大型(xíng)半導體企(qǐ)業已采用沸石轉(zhuǎn)輪濃縮後燃燒,該方法適用於大風量、低濃度、常溫的有機廢氣處理(lǐ),淨化(huà)效(xiào)率達到90%以上,濃縮比達20﹕1,運行費用(yòng)較低,設備(bèi)處理風量大,占地(dì)麵(miàn)積小,不(bú)產生二(èr)次汙染,可持續脫附並(bìng)處理汙(wū)染物。根據企業實際運 行情況,有機廢氣進氣濃度在200mg/m3以上時,處理(lǐ)效(xiào)率(lǜ)達到95%;200mg/m3以下時處理 後濃度控製在(zài)20mg/m3,可保證廢氣達標排(pái)放。
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